ku111net议时间：2023年06月14日（周三）14:30—16:30
参ku111net人员：光电工程学院部分师生
ku111net议地点：墨子楼S3301
ku111net议简介：
报告题目：薄膜的物理气相沉积技术简介
报告人：王俊宝
报告时间：14:30-15:30
内容简介：物理气相沉积（PVD）技术是在真空条件，用物理的方法将材料汽化成原子、分子或电离成离子，并通过气相过程在衬底上沉积一层具有特殊性能的薄膜技术，物理气相沉积技术制备的薄膜具有无污染、成膜均匀致密、与基体的结合力强等特点，广泛应用于微电子、集成电路、航空航天、电子、光学、机械、轻工等领域。本文主要介绍了真空蒸发、溅射、离子束沉积、外延沉积等物理气相沉积技术，并对其原理和优缺点进行比较分析。
报告题目：DLC膜涂层硬质合金刀具的研究进展
报告人：郑艳彬
报告时间：15:30-16:30
内容简介：介绍了了DLC的制备方法(包括磁控溅射、离子束沉积、脉冲激光沉积、真空阴极电弧沉积、等离子体增强型化学气相沉积)与分类。从酸蚀法、施加过渡层、表面微喷砂处理和掺杂4个方面分析如何提高膜基结合力，探讨了DLC膜的摩擦性能受湿度、温度和加工条件的影响。
光电工程学院
2023年6月13日
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